Лабораторная техника, лабораторное оборудование и приборы
Микроскопы
Микроскопы nikon
Новейшие поляризационные микроскопы NIKON ECLIPSE LV100POL / 50i POL

Новейшие поляризационные микроскопы NIKON ECLIPSE LV100POL / 50i POL

Нет в наличии

Производитель: Nikon

Описание

NIKON ECLIPSE LV100POL / 50i POLновейшие поляризационные микроскопы

NIKON ECLIPSE LV100POL / 50i POL
новейшие поляризационные микроскопы

С сентября 2005 г. Nikon приступил к выпуску новейших поляризационных микроскопов LV100POL / 50i POL.
Новейшая еще более качественная оптика и новые функциональные возможности делают эти приборы инструментом пригодным для решения наиболее актуальных исследовательских задач.

Основные нововведения реализованные в приборах LV100POL/50i POL:

новейший 50 Вт источник света, более яркий, чем традиционная 100 Вт галогенововая лампа. Уменьшившееся энергопотребление сказалось на уменьшении тепловыделения, вызывающего дрейф фокуса.
новая станина прибора в 2 раза более стабильна, чем в предыдущих моделях
перемещение фокусировки увеличилось до 30 мм, что позволяет изучать очень толстые образцы
новейшие объективы отраженного света на основе эко-стекла (“eco-glass”) позволяют получать изображения с максимально возможным качеством
революционная система “fly-eye” («глаз мухи») позволяет добиться идеально ровного распределения яркости по полю изображения.

Модель	Увеличение	Числовая апертура	Рабочий отрезок, мм
CFI Plan Epi	2,5×	0,075	8,8
CFI LU Plan Fluor Epi	5×	0,15	23,5
	10×	0,30	17,5
	20×	0,45	4,5
	50×	0,80	1,0
	100×	0,90	1,0
CFI LU Plan Epi ELWD	20×	0,40	13,0
	50×	0,55	10,1
	100×	0,80	3,5
CFI L Plan Epi SLWD	20×	0,35	24,0
	50×	0,45	17,0
	100×	0,70	6,5
CFI LU Plan Apo EPI	100×	0,95	0,4
CFI LU Plan Apo EPI	150×	0,95	0,3
CFI L Plan Apo EPI WI	150×	1,25	0,25
CFI LU Plan Fluor BD	5×	0,15	18,0
	10×	0,30	15,0
	20×	0,45	4,5
	50×	0,80	1,0
	100×	0,90	1,0
CFI LU Plan Fluor BD ELWD	20×	0,40	13,0
	50×	0,55	9,8
	100×	0,80	3,5
CFI LU Plan Apo BD	100×	0,90	0,51
CFI LU Plan Apo BD	150×	0,90	0,4

Также разработана новая серия объективов с коррекцией покровного стекла, что также позволяет их использовать в полупроводниковой промышленности для контроля жидкокристаллических панелей:

Модель	Увеличение	Числовая апертура	Рабочий отрезок, мм	Толщина корректируемого стекла, мм
CFI L Plan EPI CR	20×	0,45	10,9÷10,0	0÷1,2 мм
CFI L Plan EPI CR	50×	0,7	3,9÷3,0	0÷1,2 мм
CFI L Plan EPI CRA	100×	0,85	1,2÷0,85	0÷0,7 мм
CFI L Plan EPI CRB	100×	0,85	1,3÷0,95	0,6÷1,3 мм

Режимы работы прибора LV100D:

светлое поле
темное поле
дифференциально-интерференционный контраст Номарского
поляризационный контраст
эпи–флуоресценция
режим проходящего света
интерферометрическое измерение высоты микрообъектов

Компьютерное моделирование позволило разработать станину микроскопов с увеличенной жесткостью и увеличенной термо- и вибростабильностью. По сравнению с предыдущими моделями уровень подвижности станины уменьшился более чем в 2 раза.

Рекомендуемые товары